ラミネーションラインにおいて、熱は単なる背景要因ではありません。それは、接着剤が十分に硬化するかどうかを決定する重要な要素です。もし接着剤が十分に硬化しなければ、製品には欠陥やひび割れが生じ、後で問題が発生することになります。不足して硬化した層は、後で再処理が必要になります。一方、過度に加熱されたガラスは光の歪みを引き起こし、熱応力によって割れる可能性があります。そのため、加熱モジュールは、繰り返し行われる処理の中でも、一貫した、均一なエネルギーを供給する必要があります。
私たちは、中波赤外線放射体を利用してラミネートガラスの硬化処理を行っています。これにより、接着剤が迅速に硬化し、ガラス表面への熱の損失も少なくなります。その結果、温度の均一性が向上し、硬化にかかる時間も短縮されます。
出力は、ラインの要求に合わせて調整可能で、通常は1.5～3.0 kW/モジュールです。240/400 Vの電圧設定も可能で、コンパクトなサイズなので、標準的なラミネーションプレスに簡単に取り付けられます。制御も簡単で、フィードバック機能と調整可能な出力により、ヒーターの読み値だけでなく、接着剤の状態も管理できます。
この方式は、EVA、SGP、PVBのラミネーションに適しています。ポリマーが焦げたり、ガラスが変形したりすることなく、一貫した流れと架橋反応を実現できます。中波熱により、均一なエネルギーが迅速に供給されるため、保持時間を短縮し、生産効率を向上させることができます。
また、放射体は必要な時だけ加熱され、サイクル間の冷却も速いため、エネルギーの消費量も減少します。実際、これにより廃棄されるパネルが少なくなり、再作業も少なくなり、安定した生産速度が保てます。
設置時には、正確な位置合わせが重要です。通常、取り付け位置の誤差は±2 mm程度です。また、放射体の周囲の隙間もしっかり確認し、動くプレートに何も触れないようにする必要があります。
赤外線放射体には、清潔で反射性の高いキャビティと安定した電圧が必要です。もしラインの電圧が低下すると、硬化の一貫性が低下します。そのため、安定した電源や専用回路を使用することが重要です。